Ford przyspiesza prace w zakresie akumulatorów
Ford Ion Park to nowe globalne centrum badawcze akumulatorów koncernu Ford, które powstanie w przyszłym roku. Zaprojektowane zostało w celu przyspieszenia badań i rozwoju technologii akumulatorów i ogniw akumulatorowych oraz przyszłej produkcji ogniw i układów zasilających.
Laboratorium szkoleniowe powstanie w przyszłym roku nakładem 185 mln USD. Według komunikatu firmy, centralizacja wielofunkcyjnego zespołu 150 ekspertów z zakresu rozwoju technologii akumulatorów, badań, produkcji, planowania, zakupów, jakości i finansów, pomoże w szybszym opracowywaniu i produkcji ogniw i akumulatorów. Zespół Ford Ion Park opracuje i wyprodukuje ogniwa i układy akumulatorów litowo-jonowych i półprzewodnikowych, przetestuje różne aspekty produkcji oraz zoptymalizuje wszystkie etapy łańcucha produkcyjnego.
Obiekt o powierzchni ponad 18 500 m2 będzie wyposażony w sprzęt do projektowania i produkcji elektrod, ogniw i macierzy oraz wykorzysta najnowocześniejszą technologię przy pilotażowym wdrażaniu nowych rozwiązań produkcyjnych. To z kolei umożliwi firmie Ford szybsze wprowadzenie przełomowych projektów ogniw akumulatorowych przy użyciu nowatorskich materiałów – zapewnia firma.
Laboratorium Forda ds. benchmarkingu i testów akumulatorów, które zostało otwarte pod koniec ubiegłego roku, ma 150 komór testowych i 325 kanałów do prac rozwojowych. Eksperci w wartym 100 mln USD i mierzącym ponad 17 000 m kw. laboratorium przeanalizowali już ponad 150 typów ogniw akumulatorowych. W laboratorium znajdują się pomieszczenia do testowania ogniw i pakietów akumulatorów, stanowiska testowe i urządzenia do testów porównawczych, które wspierają walidację projektu ogniwa akumulatorowego, kontrolę kalibracji, opracowywanie pakietów i pilotażowe projekty akumulatorów z różnymi składami chemicznymi. Zespół laboratoryjny może odtworzyć wydajność akumulatorów produkowanych na pełną skalę w ekstremalnych warunkach pogodowych i przypadkach użycia przez klientów, przyspieszając wdrażanie w przyszłych pojazdach.